GB28275硅基MEMS制造技術 – 標準名稱

GB28275: Silicon-based MEMS fabrication technology. Specification for KOH etch process
GB28275：硅基MEMS制造技術，氧化鉀腐蝕工藝規范

GB28275硅基MEMS制造技術 – 適用范圍

規定了采用氫氧化鉀腐蝕工藝進行MEMS器件加工時應遵循的工藝要求。適用于氫氧化鉀腐蝕工藝和管理。

Scope: This standard specifies the use of potassium hydroxide etch process performed MEMS device fabrication process requirements to be followed.
This standard applies to KOH etching process and management.

GB28275硅基MEMS制造技術 – 參考標準

GB/T 26111 微機電系統（MEMS）技術，術語
GB/T 1031產品幾何技術規范（GPS），表面結構，輪廓法，表面粗糙度參數及其數值
GB 50073-2001 潔凈廠房設計規范